拋光漿液的用途
拋光漿液用于化學機械的水性拋光，可有效地在高拋光速率下對銅進行拋光。水性漿液可以包含溶解在氧化劑中的可溶性鉬鹽和溶解在氧化劑中的鉬酸。通過化學機械平坦化對銅進行拋光的方法包括在低壓力下用拋光墊和水性漿液對銅進行拋光，所述水性漿液包含溶解在氧化劑中的可溶性鉬鹽和溶解在氧化劑中的鉬酸、溶解在氧化劑中的MoO3顆粒和溶解在氧化劑中的MoO2顆粒。
拋光漿液是一種用于金屬化學機械拋光，該拋光漿料含有研磨顆粒、氧化劑和載體，其中所述的研磨顆粒為金屬膠體研磨顆粒。
拋光漿料通過金屬膠體研磨顆粒的作用增加金屬的絕對去除速率，使缺陷、劃傷、粘污和其它殘留明顯下降，從而降低襯底表面污染物；并且其在平坦化過程中具有較小的對介電質的相對去除速率選擇比，可以防止金屬平坦化過程中產生的介電質侵蝕，提高產品良率。
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